MEASUREMENTS OF SECONDARY-ELECTRON EMISSION IN REACTIVE SPUTTERING OF ALUMINUM AND TITANIUM NITRIDE

被引:59
作者
LEWIS, MA [1 ]
GLOCKER, DA [1 ]
JORNE, J [1 ]
机构
[1] UNIV ROCHESTER, DEPT CHEM ENGN, ROCHESTER, NY 14620 USA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A | 1989年 / 7卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.576222
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页数:6
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共 31 条
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1983, 22 (04) :L227-L229