FERROELECTRIC THIN-FILMS BY REACTIVE SPUTTERING AND HIGH-TEMPERATURE CONVERSION

被引：5

作者：

VOGEL, SF ^{[1
]}

BARLOW, IC ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,SYST DEV DIV,SAN JOSE,CA 95114

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1973年 / 10卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1317070

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：381 / 385

页数：5

共 9 条

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