HOLOGRAPHIC-INTERFEROMETRY AND SPECKLE PHOTOGRAPHY FOR STRAIN-MEASUREMENT - A COMPARISON

被引：5

作者：

DANDLIKER, R

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0143-8166(80)90008-1

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：3 / 19

页数：17

共 15 条

[1] DISPLACEMENT MEASUREMENT FROM DOUBLE-EXPOSURE LASER PHOTOGRAPHS [J].

ARCHBOLD, E ;

ENNOS, AE .

OPTICA ACTA, 1972, 19 (04) :253-&

DANDLIKER, R ;

ELIASSON, B .

[3]

DANDLIKER R, 1976, P S ENGINEERING USES, P99

[4]

Dandliker R., 1980, PROGR OPTICS, V17, P1

[5]

DANDLIKER R, 1977, SPIE, V99, P90

DUBAS, M ;

SCHUMANN, W .

OPTICA ACTA, 1974, 21 (07) :547-562

EK, L ;

BIEDERMANN, K .

APPLIED OPTICS, 1977, 16 (09) :2535-2542

[8]

Ennos A. E., 1975, Laser speckle and related phenomena, P203

[9]

FOSSATIBELLANI V, 1974, APPL OPTICS, V13, P1337

[10]

GOODMAN JW, 1975, LASER SPECKLE RELATE, P40