EFFECTS OF HYDROGEN INCORPORATION DURING DEPOSITION BY SPUTTERING FOR AMORPHOUS GALLIUM-PHOSPHIDE FILMS

被引：12

作者：

MATSUMOTO, N

KUMABE, K

机构：

[1] Musashino Electrical Communication Laboratory, Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation

来源：

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.18.1011

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：1011 / 1012

页数：2