USE OF ION-IMPLANTATION TO ELIMINATE STRESS-INDUCED DISTORTION IN X-RAY MASKS

被引：13

作者：

KU, YC ^{[1
]}

SMITH, HI ^{[1
]}

PLOTNIK, I ^{[1
]}

机构：

[1] HAMPSHIRE INSTRUMENTS INC,METROPOLITAN CORP CTR,MARLBOROUGH,MA 01752

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584077

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2174 / 2177

页数：4

共 7 条

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