DOPING OF VO2 THIN-FILMS BY ION-IMPLANTATION

被引：17

作者：

UFERT, KD ^{[1
]}

机构：

[1] AKAD WISSENSCH DDR,ZENT INST FESTKORPERPHYS & WERKSTOFFORSCH,DDR-69 JENA,GER DEM REP

来源：

PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1977年 / 42卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1002/pssa.2210420119

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：187 / 190

页数：4

共 10 条

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