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UBER DEN AUFBAU UND DIE STRUKTUR AUFGEDAMPFTER SILICIUMSCHICHTEN UND IHR VERHALTEN BEI HOHEN TEMPERATUREN
被引:7
作者
:
HASS, G
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
HASS, G
机构
:
来源
:
ZEITSCHRIFT FUR ANORGANISCHE CHEMIE
|
1948年
/ 257卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1002/zaac.19482570402
中图分类号
:
O61 [无机化学];
学科分类号
:
070301 ;
081704 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:166 / 172
页数:7
相关论文
共 5 条
[1]
Hass G, 1941, KOLLOID Z, V95, P26, DOI 10.1007/BF01520680
[2]
Structure of oxidized silicon film
Kamogawa, H
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Tokyo Elect Co, Res Lab, Kawasaki, Japan
Tokyo Elect Co, Res Lab, Kawasaki, Japan
Kamogawa, H
[J].
PHYSICAL REVIEW,
1938,
54
(01):
: 91
-
91
[3]
KONIG H, 1944, REICHSBER PHYSIK, V1, P4
[4]
Richter H, 1943, PHYS Z, V44, P406
[5]
WIENER O, 1887, ANN PHYS, V31, P629
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共 5 条
[1]
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Kamogawa, H
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