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VOVELLE C, 1971, METHODES PHYS ANAL, P353
EXPERIMENTAL INVESTIGATION OF GAS-PHASE IN A CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION REACTION - APPLICATION TO SILANE-AMMONIA REACTION LEADING TO SILICON-NITRIDE DEPOSITS
被引：20
作者：
COCHET, G
MELLOTTEE, H
DELBOURGO, R
机构：
关键词：
D O I：
10.1149/1.2131479
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：487 / 492
页数：6
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