NEW PREPARATION PROCESS FOR SPUTTERED GAMMA-FE2O3 THIN-FILM DISKS

被引：57

作者：

ISHII, Y

TERADA, A

ISHII, O

OHTA, S

HATTORI, S

MAKINO, K

机构：

[1] NIPPON TELEGRAPH & TEL PUBL CORP,MUSASHINO ELECT COMMUN LAB,BUR RES & DEV,MUSASHINO,TOKYO 180,JAPAN

[2] NIPPON TELEGRAPH & TEL PUBL CORP,IBARAKI ELECT COMMUN LABS,TOKAI,IBARAKI 31911,JAPAN

[3] FUJITSU LABS LTD,NAKAHARA KU,KAWASAKI,KANAGAWA 211,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TMAG.1980.1060660

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：3

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