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GENERATION OF DIVACANCIES IN TIN-DOPED SILICON
被引:39
作者
:
SVENSSON, BG
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机构:
UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
SVENSSON, BG
SVENSSON, J
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UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
SVENSSON, J
LINDSTROM, JL
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UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
LINDSTROM, JL
DAVIES, G
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机构:
UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
DAVIES, G
CORBETT, JW
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机构:
UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
CORBETT, JW
机构
:
[1]
UNIV LONDON KINGS COLL,DEPT PHYS,LONDON WC2R 2LS,ENGLAND
[2]
SUNY ALBANY,DEPT PHYS,ALBANY,NY 12222
[3]
LINKOPING INST TECHNOL,DEPT PHYS & MEASUREMENT TECHNOL,S-58183 LINKOPING,SWEDEN
[4]
NATL DEF RES INST,S-58111 LINKOPING,SWEDEN
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1987年
/ 51卷
/ 26期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.98902
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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