GROWTH MECHANISM AND DEFECT STRUCTURES IN EPITAXIAL SILICON

被引:40
作者
CHARIG, JM
BICKNELL, RW
STIRLAND, DJ
JOYCE, BA
机构
来源
PHILOSOPHICAL MAGAZINE | 1962年 / 7卷 / 83期
关键词
D O I
10.1080/14786436208213850
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:1847 / &
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