SILICON HOMOEPITAXY WITH ION SPUTTERING .1. MECHANISM OF GROWTH

被引:19
作者
PCHELYAKOV, OP [1 ]
LOVYAGIN, RN [1 ]
KRIVOROTOV, EA [1 ]
TOROPOV, AI [1 ]
ALEKSANDROV, LN [1 ]
STENIN, SI [1 ]
机构
[1] ACAD SCI USSR, SEMICOND PHYS INST, NOVOSIBIRSK, USSR
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE | 1973年 / 17卷 / 01期
关键词
D O I
10.1002/pssa.2210170138
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:339 / 351
页数:13
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