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一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用
被引:0
申请号
:
CN202210811837.9
申请日
:
2022-07-12
公开(公告)号
:
CN114874441A
公开(公告)日
:
2022-08-09
发明(设计)人
:
王立哲
贾斌
曹雪媛
孙朝景
杨士勇
申请人
:
申请人地址
:
101399 北京市顺义区民泰路13号院
IPC主分类号
:
C08G7310
IPC分类号
:
G02F11337
G03F7039
代理机构
:
北京纪凯知识产权代理有限公司 11245
代理人
:
王春霞
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C08G 73/10 申请日:20220712
2022-08-09
公开
公开
共 50 条
[1]
一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用
[P].
曹雪媛
论文数:
0
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
曹雪媛
;
王立哲
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王立哲
;
贾斌
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明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
贾斌
;
于悦
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明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
于悦
;
孙朝景
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明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
孙朝景
;
王雪松
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王雪松
.
中国专利
:CN118092074B
,2024-08-20
[2]
一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用
[P].
曹雪媛
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
曹雪媛
;
王立哲
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王立哲
;
贾斌
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
贾斌
;
于悦
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
于悦
;
孙朝景
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
孙朝景
;
王雪松
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王雪松
.
中国专利
:CN118092074A
,2024-05-28
[3]
一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺涂层胶及应用
[P].
王立哲
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王立哲
;
贾斌
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贾斌
;
曹雪媛
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曹雪媛
;
孙朝景
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孙朝景
;
杨士勇
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杨士勇
.
中国专利
:CN115561966A
,2023-01-03
[4]
一种低温固化的化学增幅型正性光敏聚酰亚胺及其制备方法
[P].
孙逊运
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
孙逊运
;
刘聘
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
刘聘
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刘增花
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潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
刘增花
;
段存英
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
段存英
;
于强
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潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
于强
;
王玉成
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
王玉成
.
中国专利
:CN119335816B
,2025-03-25
[5]
一种低温固化的化学增幅型正性光敏聚酰亚胺及其制备方法
[P].
孙逊运
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
孙逊运
;
刘聘
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潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
刘聘
;
刘增花
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
刘增花
;
段存英
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
段存英
;
于强
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
于强
;
王玉成
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机构:
潍坊星泰克微电子材料有限公司
潍坊星泰克微电子材料有限公司
王玉成
.
中国专利
:CN119335816A
,2025-01-21
[6]
一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用
[P].
于悦
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
于悦
;
王立哲
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王立哲
;
曹雪媛
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
曹雪媛
;
贾斌
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
贾斌
.
中国专利
:CN117806123B
,2024-05-31
[7]
一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用
[P].
于悦
论文数:
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
于悦
;
王立哲
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
王立哲
;
曹雪媛
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
曹雪媛
;
贾斌
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机构:
明士(北京)新材料开发有限公司
明士(北京)新材料开发有限公司
贾斌
.
中国专利
:CN117806123A
,2024-04-02
[8]
一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用
[P].
论文数:
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机构:
杨士勇
;
王立哲
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机构:
中国科学院化学研究所
中国科学院化学研究所
王立哲
;
贾斌
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机构:
中国科学院化学研究所
中国科学院化学研究所
贾斌
;
曹雪媛
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机构:
中国科学院化学研究所
中国科学院化学研究所
曹雪媛
;
孙朝景
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机构:
中国科学院化学研究所
中国科学院化学研究所
孙朝景
.
中国专利
:CN114488690B
,2025-11-18
[9]
一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用
[P].
杨士勇
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杨士勇
;
王立哲
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王立哲
;
贾斌
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贾斌
;
曹雪媛
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曹雪媛
;
孙朝景
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孙朝景
.
中国专利
:CN114488690A
,2022-05-13
[10]
一种光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法和应用
[P].
公聪聪
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机构:
波米科技有限公司
波米科技有限公司
公聪聪
;
贾杰
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机构:
波米科技有限公司
波米科技有限公司
贾杰
;
李铭新
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机构:
波米科技有限公司
波米科技有限公司
李铭新
.
中国专利
:CN119752318A
,2025-04-04
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