一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用

被引：0

申请号：

CN202210127932.7

申请日：

2022-02-11

公开(公告)号：

CN114488690A

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

杨士勇王立哲贾斌曹雪媛孙朝景

申请人：

申请人地址：

100190 北京市海淀区中关村北一街2号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7038 H01L21027 H01L2331

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司 11245

代理人：

刘鑫鑫

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	公开	公开
2022-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20220211

共 50 条

[1]

一种化学增幅型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法与应用 [P].

杨士勇 ;

王立哲 ;

贾斌 ;

曹雪媛 ;

孙朝景 .

中国专利 :CN114488690B ,2025-11-18

[2]

一种化学增幅型聚酰亚胺前体及其制备的光刻胶组合物 [P].

刘敬成 ;

纪昌炜 ;

李小杰 .

中国专利 :CN120399227A ,2025-08-01

[3]

负性光敏聚酰亚胺光刻胶及其制备方法、聚酰亚胺薄膜和应用 [P].

曹志文 ;

郑爽 .

中国专利 :CN119024643A ,2024-11-26

[4]

一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺涂层胶及应用 [P].

王立哲 ;

贾斌 ;

曹雪媛 ;

孙朝景 ;

杨士勇 .

中国专利 :CN115561966A ,2023-01-03

[5]

一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用 [P].

曹雪媛 ;

王立哲 ;

贾斌 ;

于悦 ;

孙朝景 ;

王雪松 .

中国专利 :CN118092074B ,2024-08-20

[6]

一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用 [P].

王立哲 ;

贾斌 ;

曹雪媛 ;

孙朝景 ;

杨士勇 .

中国专利 :CN114874441A ,2022-08-09

[7]

一种化学增幅型正性光敏聚酰亚胺涂层胶及其制备方法与应用 [P].

曹雪媛 ;

王立哲 ;

贾斌 ;

于悦 ;

孙朝景 ;

王雪松 .

中国专利 :CN118092074A ,2024-05-28

[8]

一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用 [P].

于悦 ;

王立哲 ;

曹雪媛 ;

贾斌 .

中国专利 :CN117806123B ,2024-05-31

[9]

一种化学增幅型负性光敏聚酰亚胺组合物及其应用 [P].

于悦 ;

王立哲 ;

曹雪媛 ;

贾斌 .

中国专利 :CN117806123A ,2024-04-02

[10]

一种离子型负性聚酰亚胺光刻胶及其制备方法和应用 [P].

汪峰 ;

田玉奎 ;

叶徐鹏 ;

史恩台 ;

孙善卫 ;

刘明阳 .

中国专利 :CN121226716A ,2025-12-30

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