一种等离子体处理装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202321957337.2
申请日
2023-07-24
公开(公告)号
CN220585185U
公开(公告)日
2024-03-12
发明(设计)人
朱永成 王智昊 杨宽
申请人
中微半导体设备(上海)股份有限公司
申请人地址
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
H01L21/3065
代理机构
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人
王振;徐雯琼
法律状态
授权
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
一种等离子体处理装置 [P]. 
王智昊 ;
朱永成 ;
杨宽 .
中国专利 :CN118610058A ,2024-09-06
[2]
等离子体处理装置 [P]. 
杨志军 .
中国专利 :CN204361048U ,2015-05-27
[3]
一种等离子体处理装置 [P]. 
杨金全 ;
王正友 ;
段蛟 .
中国专利 :CN212750803U ,2021-03-19
[4]
一种等离子体处理装置 [P]. 
杨金全 ;
苏兴才 ;
叶如彬 .
中国专利 :CN213459633U ,2021-06-15
[5]
一种等离子体处理装置 [P]. 
王智昊 ;
杨宽 .
中国专利 :CN118263076A ,2024-06-28
[6]
一种新型等离子体处理装置 [P]. 
沈文凯 ;
王红卫 .
中国专利 :CN203618208U ,2014-05-28
[7]
等离子体处理装置 [P]. 
李金娟 .
中国专利 :CN213093171U ,2021-04-30
[8]
等离子体处理装置 [P]. 
D·万德克 ;
M·哈恩尔 ;
K-O·施托克 ;
L·特鲁特威格 ;
M·里克 .
中国专利 :CN111201838A ,2020-05-26
[9]
等离子体处理装置 [P]. 
日高康贵 ;
风间晃一 ;
佐藤孝纪 ;
四本松美优 ;
加藤武宏 .
日本专利 :CN117716479A ,2024-03-15
[10]
等离子体处理装置 [P]. 
崔正秀 .
中国专利 :CN208045452U ,2018-11-02