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一种等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202321957337.2
申请日
:
2023-07-24
公开(公告)号
:
CN220585185U
公开(公告)日
:
2024-03-12
发明(设计)人
:
朱永成
王智昊
杨宽
申请人
:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
申请人地址
:
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
H01L21/3065
代理机构
:
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人
:
王振;徐雯琼
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-12
授权
授权
共 50 条
[1]
一种等离子体处理装置
[P].
王智昊
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
王智昊
;
朱永成
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
朱永成
;
杨宽
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
杨宽
.
中国专利
:CN118610058A
,2024-09-06
[2]
等离子体处理装置
[P].
杨志军
论文数:
0
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0
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0
杨志军
.
中国专利
:CN204361048U
,2015-05-27
[3]
一种等离子体处理装置
[P].
杨金全
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0
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杨金全
;
王正友
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王正友
;
段蛟
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段蛟
.
中国专利
:CN212750803U
,2021-03-19
[4]
一种等离子体处理装置
[P].
杨金全
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0
杨金全
;
苏兴才
论文数:
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苏兴才
;
叶如彬
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叶如彬
.
中国专利
:CN213459633U
,2021-06-15
[5]
一种等离子体处理装置
[P].
王智昊
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0
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
王智昊
;
杨宽
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
杨宽
.
中国专利
:CN118263076A
,2024-06-28
[6]
一种新型等离子体处理装置
[P].
沈文凯
论文数:
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沈文凯
;
王红卫
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王红卫
.
中国专利
:CN203618208U
,2014-05-28
[7]
等离子体处理装置
[P].
李金娟
论文数:
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李金娟
.
中国专利
:CN213093171U
,2021-04-30
[8]
等离子体处理装置
[P].
D·万德克
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0
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D·万德克
;
M·哈恩尔
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M·哈恩尔
;
K-O·施托克
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K-O·施托克
;
L·特鲁特威格
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L·特鲁特威格
;
M·里克
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M·里克
.
中国专利
:CN111201838A
,2020-05-26
[9]
等离子体处理装置
[P].
日高康贵
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
日高康贵
;
风间晃一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
风间晃一
;
佐藤孝纪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤孝纪
;
四本松美优
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
四本松美优
;
加藤武宏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤武宏
.
日本专利
:CN117716479A
,2024-03-15
[10]
等离子体处理装置
[P].
崔正秀
论文数:
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0
崔正秀
.
中国专利
:CN208045452U
,2018-11-02
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