含非连续电场区的等离子体增强装置、系统及设计方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211378750.3

申请日：

2022-11-04

公开(公告)号：

CN117998717A

公开(公告)日：

2024-05-07

发明(设计)人：

唐诗雅关银霞包涵春李超朱骁赵乾斌杜宇郭亚逢

申请人：

中国石油化工股份有限公司中石化安全工程研究院有限公司

申请人地址：

100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号

IPC主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司 11283

代理人：

陈潇潇

法律状态：

公开

国省代码：

山东省青岛市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-07	公开	公开
2024-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/24申请日:20221104

共 50 条

[1]

低温等离子体增强装置、系统及设计方法 [P].

唐诗雅 ;

李超 ;

包涵春 ;

关银霞 ;

朱骁 ;

赵乾斌 ;

杜宇 ;

郭亚逢 .

中国专利 :CN117983035A ,2024-05-07

[2]

电场增强的等离子体放电装置及利用该装置增强电场的方法 [P].

唐诗雅 ;

关银霞 ;

李栖楠 ;

王世强 ;

牟善军 ;

牟洪祥 ;

刘全桢 .

中国专利 :CN113825293B ,2024-10-29

[3]

电场增强的等离子体放电装置及利用该装置增强电场的方法 [P].

唐诗雅 ;

关银霞 ;

李栖楠 ;

王世强 ;

牟善军 ;

牟洪祥 ;

刘全桢 .

中国专利 :CN113825293A ,2021-12-21

[4]

用于等离子体反应器的增强等离子体源 [P].

V·N·托多罗 ;

G·勒雷 ;

M·D·威尔沃斯 ;

L-S·蒋 .

中国专利 :CN105340059A ,2016-02-17

[5]

等离子体护理装置及等离子体护理梳 [P].

马航 ;

吕庆 ;

邵明绪 ;

胡震文 ;

王妍 .

中国专利 :CN220756110U ,2024-04-12

[6]

等离子体增强磁控溅射系统及方法 [P].

石永敬 ;

孙建春 ;

原金海 ;

周安若 ;

吴英 .

中国专利 :CN105862005A ,2016-08-17

[7]

一种低温等离子体处理医疗废水的装置及方法 [P].

黄青 ;

张启富 ;

魏星 ;

张宏 ;

柯志刚 .

中国专利 :CN108640228A ,2018-10-12

[8]

等离子体增强薄膜沉积方法及装置 [P].

陈杰良 .

中国专利 :CN1800441B ,2006-07-12

[9]

加强等离子体处理系统中的等离子体增强蚀刻 [P].

埃里克·赫德森 ;

安德鲁·D·贝利三世 ;

拉金德尔·迪恩赛 .

中国专利 :CN107424900A ,2017-12-01

[10]

加强等离子体处理系统中的等离子体增强蚀刻 [P].

埃里克·赫德森 ;

安德鲁·D·贝利三世 ;

拉金德尔·迪恩赛 .

中国专利 :CN103632954B ,2014-03-12

← 1 2 3 4 5 →