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一种晶圆光刻胶控胶设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202322316299.9
申请日
:
2023-08-28
公开(公告)号
:
CN220697295U
公开(公告)日
:
2024-04-02
发明(设计)人
:
刘天石
刘芳
申请人
:
爱佩克斯(合肥)科技有限公司
申请人地址
:
230000 安徽省合肥市经济技术开发区天都路4345号3号厂房2层
IPC主分类号
:
B05C5/02
IPC分类号
:
B05C11/00
B05C11/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-22
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类):B05C 5/02申请日:20230828授权公告日:20240402
2024-04-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种晶圆光刻胶控胶设备
[P].
姚利
论文数:
0
引用数:
0
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0
姚利
.
中国专利
:CN217797159U
,2022-11-15
[2]
一种晶圆光刻胶剥离设备
[P].
石雪香
论文数:
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0
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0
石雪香
.
中国专利
:CN112130429A
,2020-12-25
[3]
一种晶圆光刻胶剥离设备
[P].
尤古嘉
论文数:
0
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0
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0
尤古嘉
.
中国专利
:CN112908928A
,2021-06-04
[4]
一种晶圆光刻胶金属剥离设备
[P].
石雪香
论文数:
0
引用数:
0
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0
石雪香
.
中国专利
:CN112495597A
,2021-03-16
[5]
一种半导体晶圆光刻胶涂布装置
[P].
由振琪
论文数:
0
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0
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0
由振琪
.
中国专利
:CN215918024U
,2022-03-01
[6]
一种用于晶圆光刻胶的过滤器
[P].
杨守刚
论文数:
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0
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杨守刚
;
魏兴政
论文数:
0
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魏兴政
.
中国专利
:CN217909348U
,2022-11-29
[7]
一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备
[P].
廖世容
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廖世容
;
况诗吟
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况诗吟
;
谢建平
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谢建平
.
中国专利
:CN114460811A
,2022-05-10
[8]
一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备
[P].
廖世容
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机构:
浙江光特科技有限公司
浙江光特科技有限公司
廖世容
;
况诗吟
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机构:
浙江光特科技有限公司
浙江光特科技有限公司
况诗吟
;
谢建平
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机构:
浙江光特科技有限公司
浙江光特科技有限公司
谢建平
.
中国专利
:CN114460811B
,2024-09-06
[9]
一种晶圆光刻胶剥离防雾气外溢设备
[P].
赵震
论文数:
0
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0
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0
赵震
.
中国专利
:CN112230519A
,2021-01-15
[10]
改善晶圆光刻胶涂布效果的方法
[P].
谷云鹏
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谷云鹏
;
吴长明
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吴长明
;
姚振海
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姚振海
;
陈骆
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陈骆
;
孙龙
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孙龙
;
郭星
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郭星
.
中国专利
:CN112415854A
,2021-02-26
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