屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311746988.1
申请日
2023-12-19
公开(公告)号
CN117727787A
公开(公告)日
2024-03-19
发明(设计)人
杨旭刚 田月姣
申请人
深圳市创飞芯源半导体有限公司
申请人地址
518057 广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科技路9号桑达科技工业大厦525
IPC主分类号
H01L29/78
IPC分类号
H01L29/423 H01L21/28 H01L21/336
代理机构
北京清辰科创知识产权代理事务所(普通合伙) 16133
代理人
王玉玺
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法 [P]. 
杨旭刚 ;
田月姣 .
中国专利 :CN117727776A ,2024-03-19
[2]
沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法 [P]. 
杨旭刚 ;
田月姣 .
中国专利 :CN118919559A ,2024-11-08
[3]
屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
余健 .
中国专利 :CN119342867B ,2025-10-24
[4]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备 [P]. 
杨国江 ;
范荣定 ;
陈炜 ;
刘健 ;
夏昊天 ;
葛海波 .
中国专利 :CN111244176A ,2020-06-05
[5]
屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
余健 .
中国专利 :CN119342867A ,2025-01-21
[6]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备 [P]. 
杨国江 ;
赖信彰 ;
于世珩 .
中国专利 :CN111834463B ,2024-06-18
[7]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备 [P]. 
杨国江 ;
赖信彰 ;
于世珩 .
中国专利 :CN111834463A ,2020-10-27
[8]
屏蔽栅沟槽型MOSFET的制备方法以及屏蔽栅沟槽型MOSFET [P]. 
曹申 ;
陈水良 ;
李秀柱 ;
姚飞宇 ;
刘瑜 .
中国专利 :CN117894819A ,2024-04-16
[9]
一种屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
杨天翠 ;
李伟聪 ;
姜春亮 .
中国专利 :CN117976723A ,2024-05-03
[10]
一种屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
杨天翠 ;
李伟聪 ;
姜春亮 .
中国专利 :CN117976723B ,2024-07-02