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屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311746988.1
申请日
:
2023-12-19
公开(公告)号
:
CN117727787A
公开(公告)日
:
2024-03-19
发明(设计)人
:
杨旭刚
田月姣
申请人
:
深圳市创飞芯源半导体有限公司
申请人地址
:
518057 广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科技路9号桑达科技工业大厦525
IPC主分类号
:
H01L29/78
IPC分类号
:
H01L29/423
H01L21/28
H01L21/336
代理机构
:
北京清辰科创知识产权代理事务所(普通合伙) 16133
代理人
:
王玉玺
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-05
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 29/78申请日:20231219
2024-03-19
公开
公开
2025-03-28
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):H01L 29/78申请公布日:20240319
共 50 条
[1]
沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法
[P].
杨旭刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市创飞芯源半导体有限公司
深圳市创飞芯源半导体有限公司
杨旭刚
;
田月姣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市创飞芯源半导体有限公司
深圳市创飞芯源半导体有限公司
田月姣
.
中国专利
:CN117727776A
,2024-03-19
[2]
沟槽型MOSFET器件及制备方法、电子设备及制备方法
[P].
杨旭刚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市创飞芯源半导体有限公司
深圳市创飞芯源半导体有限公司
杨旭刚
;
田月姣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市创飞芯源半导体有限公司
深圳市创飞芯源半导体有限公司
田月姣
.
中国专利
:CN118919559A
,2024-11-08
[3]
屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法
[P].
余健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
瑶芯微(上海)电子科技股份有限公司
瑶芯微(上海)电子科技股份有限公司
余健
.
中国专利
:CN119342867B
,2025-10-24
[4]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备
[P].
杨国江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨国江
;
范荣定
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
范荣定
;
陈炜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈炜
;
刘健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘健
;
夏昊天
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
夏昊天
;
葛海波
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
葛海波
.
中国专利
:CN111244176A
,2020-06-05
[5]
屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法
[P].
余健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
瑶芯微(上海)电子科技股份有限公司
瑶芯微(上海)电子科技股份有限公司
余健
.
中国专利
:CN119342867A
,2025-01-21
[6]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备
[P].
杨国江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏长晶科技股份有限公司
江苏长晶科技股份有限公司
杨国江
;
赖信彰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏长晶科技股份有限公司
江苏长晶科技股份有限公司
赖信彰
;
于世珩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏长晶科技股份有限公司
江苏长晶科技股份有限公司
于世珩
.
中国专利
:CN111834463B
,2024-06-18
[7]
屏蔽栅沟槽MOSFET及其制备方法、电子设备
[P].
杨国江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
杨国江
;
赖信彰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
赖信彰
;
于世珩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于世珩
.
中国专利
:CN111834463A
,2020-10-27
[8]
屏蔽栅沟槽型MOSFET的制备方法以及屏蔽栅沟槽型MOSFET
[P].
曹申
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
曹申
;
陈水良
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
陈水良
;
李秀柱
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
李秀柱
;
姚飞宇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
姚飞宇
;
刘瑜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
刘瑜
.
中国专利
:CN117894819A
,2024-04-16
[9]
一种屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法
[P].
杨天翠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
杨天翠
;
李伟聪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
李伟聪
;
姜春亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
姜春亮
.
中国专利
:CN117976723A
,2024-05-03
[10]
一种屏蔽栅沟槽型MOSFET器件及其制备方法
[P].
杨天翠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
杨天翠
;
李伟聪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
李伟聪
;
姜春亮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳市威兆半导体股份有限公司
深圳市威兆半导体股份有限公司
姜春亮
.
中国专利
:CN117976723B
,2024-07-02
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