一种立式双面等离子清洗装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311486507.8
申请日
2023-11-09
公开(公告)号
CN117219977B
公开(公告)日
2024-03-01
发明(设计)人
冀然 李晓飞
申请人
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址
266109 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房
IPC主分类号
H01M50/593
IPC分类号
H01M50/588
代理机构
北京季诺知识产权代理事务所(普通合伙) 16245
代理人
任真真
法律状态
授权
国省代码
山东省 青岛市
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共 50 条
[1]
一种双面等离子清洗装置 [P]. 
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赵威 .
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
一种等离子自动清洗装置 [P]. 
丁程 .
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[8]
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[9]
一种刻蚀机等离子清洗装置 [P]. 
王维 ;
乔佳原 ;
祝加贝 .
中国专利 :CN117772416B ,2024-05-31
[10]
一种等离子清洗装置 [P]. 
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