掩模坯的制造方法、掩模坯及光掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310774221.3

申请日：

2023-06-28

公开(公告)号：

CN117331276A

公开(公告)日：

2024-01-02

发明(设计)人：

望月圣汐崎英治関根正弘东小由里山田慎吾森山久美子

申请人：

爱发科成膜株式会社株式会社SK电子

申请人地址：

日本崎玉县

IPC主分类号：

G03F1/26

IPC分类号：

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

辛雪花;周艳玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-01-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/26申请日:20230628
2024-01-02	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模坯的制造方法、掩模坯、光掩模的制造方法及光掩模 [P].

铃木寿弘 ;

细谷守男 ;

金井修一郎 ;

中畦修 .

中国专利 :CN115698849A ,2023-02-03

[2]

掩模坯及光掩模 [P].

江成雄一 ;

望月圣 ;

浅见智史 .

中国专利 :CN112578629A ,2021-03-30

[3]

掩模坯及光掩模 [P].

江成雄一 ;

汐崎英治 ;

望月圣 ;

关根正弘 .

日本专利 :CN120595533A ,2025-09-05

[4]

掩模坯及光掩模 [P].

江成雄一 ;

望月圣 ;

浅见智史 .

日本专利 :CN112578629B ,2024-10-22

[5]

光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法 [P].

山田慎吾 ;

森山久美子 ;

美作昌宏 .

中国专利 :CN108693697B ,2018-10-23

[6]

光掩模的制造方法和光掩模坯 [P].

笹本纮平 .

中国专利 :CN113867098A ,2021-12-31

[7]

相移掩模坯、相移掩模坯的制造方法、相移掩模及相移掩模的制造方法 [P].

望月圣 ;

关根正弘 ;

汐崎英治 ;

江成雄一 .

日本专利 :CN120704049A ,2025-09-26

[8]

掩模坯、半色调掩模、掩模坯的制造方法及半色调掩模的制造方法 [P].

诸沢成浩 .

中国专利 :CN111025840A ,2020-04-17

[9]

掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法 [P].

诸沢成浩 .

日本专利 :CN113406856B ,2024-10-25

[10]

掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法 [P].

诸沢成浩 .

中国专利 :CN113406856A ,2021-09-17

← 1 2 3 4 5 →