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曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202280044691.8
申请日：
2022-07-01
公开(公告)号：
CN117546099A
公开(公告)日：
2024-02-09
发明(设计)人：
加藤正纪
水野仁
水野恭志
申请人：
株式会社尼康
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
闫剑平
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-02-09 | 公开 | 公开 |
| 2024-03-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20220701 |