曝光装置、曝光方法及组件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910008214.2

申请日：

2005-10-12

公开(公告)号：

CN101487981A

公开(公告)日：

2009-07-22

发明(设计)人：

长坂博之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

许海兰

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-01-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101258336755 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009100082142 公开日:20090722
2009-09-16	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-07-22	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101031996A ,2007-09-05

[2]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

大和壮一 ;

长坂博之 ;

菅原龙 .

中国专利 :CN101799636A ,2010-08-11

[3]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

大和壮一 ;

长坂博之 ;

菅原龙 .

中国专利 :CN101002299A ,2007-07-18

[4]

曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN1950929A ,2007-04-18

[5]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104678718A ,2015-06-03

[6]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104238283B ,2014-12-24

[7]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN102549501A ,2012-07-04

[8]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104698772A ,2015-06-10

[9]

曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117546099A ,2024-02-09

[10]

曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法 [P].

大和壮一 ;

长坂博之 ;

菅原龙 .

中国专利 :CN102998910A ,2013-03-27

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