曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510107386.0

申请日：

2010-08-24

公开(公告)号：

CN104698772A

公开(公告)日：

2015-06-10

发明(设计)人：

柴崎祐一

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

宿小猛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101616058939 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2015101073860 申请日:20100824
2015-06-10	公开	公开
2017-08-29	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104678718A ,2015-06-03

[2]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104238283B ,2014-12-24

[3]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN102549501A ,2012-07-04

[4]

曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN1950929A ,2007-04-18

[5]

曝光装置、曝光方法以及装置制造方法 [P].

竹中务 ;

三岛和彦 .

中国专利 :CN104516213B ,2015-04-15

[6]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

[7]

曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN101675500A ,2010-03-17

[8]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28

[9]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

[10]

曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

堀川浩人 .

中国专利 :CN100524616C ,2007-02-28

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