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曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201410492152.8
申请日：
2010-08-24
公开(公告)号：
CN104238283B
公开(公告)日：
2014-12-24
发明(设计)人：
柴崎祐一
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人：
曹瑾
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2017-04-12 授权 授权
2014-12-24 公开 公开
2015-01-14 实质审查的生效 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101595665359 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2014104921528 申请日:20100824
共 50 条
[1]
曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN104678718A ,2015-06-03
[2]
曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN102549501A ,2012-07-04
[3]
曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN104698772A ,2015-06-10
[4]
曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN1950929A ,2007-04-18
[5]
曝光装置、曝光方法以及装置制造方法 [P]. 
竹中务 ;
三岛和彦 .
中国专利 :CN104516213B ,2015-04-15
[6]
曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P]. 
长坂博之 .
中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20
[7]
曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P]. 
柴崎祐一 .
中国专利 :CN101675500A ,2010-03-17
[8]
曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P]. 
长坂博之 .
中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28
[9]
曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P]. 
水谷刚之 .
中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15
[10]
曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P]. 
堀川浩人 .
中国专利 :CN100524616C ,2007-02-28
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