曝光装置的控制方法、曝光方法及组件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210468689.1

申请日：

2005-08-01

公开(公告)号：

CN102998910A

公开(公告)日：

2013-03-27

发明(设计)人：

大和壮一长坂博之菅原龙

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

许海兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-27	公开	公开
2013-04-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101444323017 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012104686891 申请日:20050801
2016-05-11	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃号牌文件类型代码:1606 号牌文件序号:101660478673 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012104686891 放弃生效日:20160511

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

大和壮一 ;

长坂博之 ;

菅原龙 .

中国专利 :CN101799636A ,2010-08-11

[2]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

大和壮一 ;

长坂博之 ;

菅原龙 .

中国专利 :CN101002299A ,2007-07-18

[3]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101031996A ,2007-09-05

[4]

曝光装置、曝光方法及组件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101487981A ,2009-07-22

[5]

曝光装置、曝光方法及电子组件的制造方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117546099A ,2024-02-09

[6]

曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN1950929A ,2007-04-18

[7]

曝光装置、曝光方法及元件制造方法 [P].

西井康文 .

中国专利 :CN1954408B ,2007-04-25

[8]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104678718A ,2015-06-03

[9]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN104238283B ,2014-12-24

[10]

曝光装置、曝光方法、以及组件制造方法 [P].

柴崎祐一 .

中国专利 :CN102549501A ,2012-07-04

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