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一种降低晶体缺陷的单晶炉
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910146539.0
申请日
:
2019-02-27
公开(公告)号
:
CN109680330B
公开(公告)日
:
2024-06-11
发明(设计)人
:
刘冬雯
申请人
:
刘冬雯
申请人地址
:
226000 江苏省南通市如皋市如城街道凌青村二十一组16号
IPC主分类号
:
C30B15/14
IPC分类号
:
C30B29/06
代理机构
:
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224
代理人
:
褚超孚
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-06-11
授权
授权
共 50 条
[1]
一种降低晶体缺陷的单晶炉
[P].
刘冬雯
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刘冬雯
.
中国专利
:CN209873178U
,2019-12-31
[2]
一种降低晶体缺陷的单晶炉
[P].
刘冬雯
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刘冬雯
.
中国专利
:CN109680330A
,2019-04-26
[3]
一种降低铸锭硅单晶晶体缺陷的方法
[P].
熊震
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熊震
;
付少永
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付少永
;
张驰
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张驰
.
中国专利
:CN102703965A
,2012-10-03
[4]
降低晶体缺陷密度的方法
[P].
M·P·德埃维林
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M·P·德埃维林
;
S·D·阿图尔
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S·D·阿图尔
;
L·B·罗兰德
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L·B·罗兰德
;
S·S·瓦加拉利
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S·S·瓦加拉利
;
J·W·卢塞克
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J·W·卢塞克
;
T·R·安托尼
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T·R·安托尼
;
L·M·莱文森
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L·M·莱文森
.
中国专利
:CN1480569A
,2004-03-10
[5]
降低晶体缺陷密度的方法
[P].
M·P·德埃维林
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M·P·德埃维林
;
S·D·阿图尔
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S·D·阿图尔
;
L·B·罗兰德
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L·B·罗兰德
;
S·S·瓦加拉利
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S·S·瓦加拉利
;
J·W·卢塞克
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J·W·卢塞克
;
T·R·安托尼
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T·R·安托尼
;
L·M·莱文森
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L·M·莱文森
.
中国专利
:CN1920124A
,2007-02-28
[6]
一种降低晶体缺陷的碳化硅单晶制备方法
[P].
不公告发明人
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不公告发明人
.
中国专利
:CN111962152A
,2020-11-20
[7]
一种降低磷化铟晶体缺陷的方法
[P].
史艳磊
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
史艳磊
;
孙聂枫
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
孙聂枫
;
王书杰
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
王书杰
;
张鑫
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中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
张鑫
;
张晓丹
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中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
张晓丹
;
李晓岚
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
李晓岚
;
邵会民
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中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
邵会民
;
王阳
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
王阳
.
中国专利
:CN117737821A
,2024-03-22
[8]
一种检测晶体缺陷的装置
[P].
张玉
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张玉
;
曹建民
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曹建民
;
赵龙
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赵龙
;
宋旭宁
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宋旭宁
;
董永见
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董永见
.
中国专利
:CN203465253U
,2014-03-05
[9]
降低晶体缺陷的钻头生产工艺
[P].
李明义
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李明义
.
中国专利
:CN107663575A
,2018-02-06
[10]
单晶体缺陷的去除方法及用该方法去除缺陷的单晶体
[P].
古川纯
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古川纯
;
须藤充
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须藤充
;
中井哲弥
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中井哲弥
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藤川隆男
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藤川隆男
;
增井卓也
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增井卓也
.
中国专利
:CN1215205C
,2001-10-31
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