異なる歪み状態を有するトランジスタチャネルを含む半導体層を製作する方法及び関連半導体層[ja]

被引:0
申请号
JP20170514528
申请日
2015-08-28
公开(公告)号
JP2017532781A
公开(公告)日
2017-11-02
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/02
IPC分类号
H01L21/20 H01L21/265 H01L21/336 H01L27/12 H01L29/786
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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