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異なる歪み状態を有するトランジスタチャネルを含む半導体層を製作する方法及び関連半導体層[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170514528
申请日
:
2015-08-28
公开(公告)号
:
JP2017532781A
公开(公告)日
:
2017-11-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/02
IPC分类号
:
H01L21/20
H01L21/265
H01L21/336
H01L27/12
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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共 50 条
[1]
異なる半導体材料の半導体相互接続層及び半導体チャネル層を備えたトランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP6041139B2
,2016-12-07
[2]
半導体接触層を有する光電子半導体部品および光電子半導体部品を製造するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021534590A
,2021-12-09
[3]
フィン構造を有する半導体装置、およびフィン構造を有する半導体装置を形成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015517220A
,2015-06-18
[4]
半導体材料内に層を製作するための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6069664B2
,2017-02-01
[5]
窒化された界面層を有する半導体基板[ja]
[P].
日本专利
:JP2023532799A
,2023-07-31
[6]
nドープ中間層を有する半導体基板[ja]
[P].
日本专利
:JP2022514918A
,2022-02-16
[7]
有機半導体材料を含む薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP2022523611A
,2022-04-26
[8]
半導体材料を含む複合部分を有する触覚刺激装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5749277B2
,2015-07-15
[9]
水素障壁材料を有する垂直トランジスタを含むデバイス及び関連する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022502865A
,2022-01-11
[10]
薄膜半導体材料を用いる薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5718052B2
,2015-05-13
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