半导体制造车间环境监控系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420147566.2

申请日：

2014-03-28

公开(公告)号：

CN203773330U

公开(公告)日：

2014-08-13

发明(设计)人：

施燕莉李广宁

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区（亦庄）文昌大道18号

IPC主分类号：

G05B19418

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-13	授权	授权

共 50 条

[1]

一种半导体制造车间环境监控系统 [P].

陈宝玉 .

中国专利 :CN207317870U ,2018-05-04

[2]

一种半导体制造车间环境监控系统 [P].

唐通常 .

中国专利 :CN208190819U ,2018-12-04

[3]

一种半导体制造车间环境监控系统 [P].

卫滇萍 .

中国专利 :CN207318293U ,2018-05-04

[4]

半导体制造设备的排气监控系统 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208738191U ,2019-04-12

[5]

半导体制造系统 [P].

任杰 ;

黄颖泉 .

中国专利 :CN203351563U ,2013-12-18

[6]

半导体制造装置的监控系统以及监控方法 [P].

今井伸一 ;

田中真贵 .

中国专利 :CN1476051A ,2004-02-18

[7]

半导体制造机台的状况监控方法及半导体制造系统 [P].

潘信华 ;

罗忠文 ;

徐宗本 .

中国专利 :CN110504186B ,2019-11-26

[8]

半导体制造系统 [P].

上村昌己 ;

中尾隆 .

中国专利 :CN1228813C ,2003-08-27

[9]

半导体制造系统 [P].

伴功二 ;

出水清史 .

中国专利 :CN1179005A ,1998-04-15

[10]

半导体制造系统 [P].

Y·E·李 ;

J·E·帕加尼希 ;

D·瓦萨罗 ;

G·K·福莱明格 .

中国专利 :CN1148250C ,2001-07-25

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