成像装置、成像系统、移动体以及用于制造成像装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810610437.5

申请日：

2018-06-14

公开(公告)号：

CN109103083A

公开(公告)日：

2018-12-28

发明(设计)人：

小林昌弘关根宽大贯裕介小泉彻

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21266

IPC分类号：

H01L27146 H04N5235 H04N5361 H04N5374 H04N53745

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

宋岩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-28	公开	公开
2019-07-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/266 申请日:20180614

共 50 条

[1]

成像装置、成像系统及用于制造成像装置的方法 [P].

筱原真人 ;

小林昌弘 ;

板桥政次 .

中国专利 :CN105830219A ,2016-08-03

[2]

成像装置、电子设备以及制造成像装置的方法 [P].

池田晴美 ;

山本敦彦 ;

蛯子芳树 ;

柳田刚志 .

中国专利 :CN104347658A ,2015-02-11

[3]

成像装置和制造成像装置的方法 [P].

纳土晋一郎 ;

广濑里喜哉 ;

木村胜治 .

日本专利 :CN120982233A ,2025-11-18

[4]

成像装置和制造成像装置的方法 [P].

纳土晋一郎 ;

木村胜治 ;

桝田佳明 ;

畑野启介 ;

广濑里喜哉 .

日本专利 :CN120898544A ,2025-11-04

[5]

成像装置、成像系统、移动体以及用于层压的半导体基板 [P].

小林秀央 ;

白井誉浩 ;

吉田大介 ;

长谷川苍 .

中国专利 :CN110581967B ,2019-12-17

[6]

成像装置以及成像装置的制造方法 [P].

井上启司 ;

神田英一朗 .

中国专利 :CN110870071A ,2020-03-06

[7]

成像装置以及成像装置的制造方法 [P].

井上启司 ;

神田英一朗 .

日本专利 :CN110870071B ,2024-03-22

[8]

成像设备和制造成像设备的方法 [P].

饭田洋一郎 ;

丰口银二郎 ;

岩田旬史 ;

和田洋一 ;

伊藤秀行 ;

坪井宏政 ;

瀬户大地 .

中国专利 :CN109390363B ,2019-02-26

[9]

成像装置、成像系统和成像装置的制造方法 [P].

篠原真人 .

中国专利 :CN104752449A ,2015-07-01

[10]

固态成像装置,成像方法以及成像系统 [P].

中柴康隆 .

中国专利 :CN101055884A ,2007-10-17

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