放射性フッ素標識化合物の製造方法および放射性医薬の製造方法[ja]

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申请号
JP20190525277
申请日
2018-05-28
公开(公告)号
JP7159157B2
公开(公告)日
2022-10-24
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07D233/91
IPC分类号
A61K51/00 A61K51/02 A61K51/04 C07B59/00 C07D403/14
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[2]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007063940A1 ,2009-05-07
[3]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005044758A1 ,2007-11-29
[5]
放射性フッ素化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005030677A1 ,2007-11-15
[6]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009078396A1 ,2011-04-28
[7]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007132689A1 ,2009-09-24
[8]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007066567A1 ,2009-05-14
[9]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5732198B2 ,2015-06-10
[10]
放射性医薬の製造方法及び放射性医薬[ja] [P]. 
日本专利 :JP7576334B2 ,2024-10-31