放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20050515333
申请日
2004-11-08
公开(公告)号
JPWO2005044758A1
公开(公告)日
2007-11-29
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07B59/00
IPC分类号
C07H5/02 C07H13/06
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
放射性フッ素標識化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007063940A1 ,2009-05-07
[2]
放射性フッ素標識化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013042668A1 ,2015-03-26
[3]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009078396A1 ,2011-04-28
[4]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007132689A1 ,2009-09-24
[5]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007066567A1 ,2009-05-14
[6]
放射性フッ素標識有機化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5732198B2 ,2015-06-10
[7]
放射性フッ素化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005030677A1 ,2007-11-15