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酸化物焼結体、ターゲット、およびそれを用いて得られる透明導電膜、並びに透明導電性基材[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080520471
申请日
:
2007-05-11
公开(公告)号
:
JPWO2007141994A1
公开(公告)日
:
2009-10-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B35/453
IPC分类号
:
C23C14/24
C23C14/34
H01B5/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物焼結体、ターゲット、およびそれを用いて得られる透明導電膜、並びに透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JP5716768B2
,2015-05-13
[2]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、及びそれを用いて得られる透明導電膜ならびに透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009008297A1
,2010-09-09
[3]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、及びそれを用いて得られる透明導電膜ならびに透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JP5655306B2
,2015-01-21
[4]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、及びそれを用いて得られる透明導電膜ならびに透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JP5776740B2
,2015-09-09
[5]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、及びそれを用いて得られる透明導電膜ならびに透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JP5725102B2
,2015-05-27
[6]
酸化物焼結体、それから成るターゲットおよび透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5740992B2
,2015-07-01
[7]
透明導電膜及びそれを用いた透明導電性基材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005083722A1
,2008-01-17
[8]
酸化物焼結体、その製造方法、それを用いて得られる酸化物透明導電膜及び太陽電池[ja]
[P].
日本专利
:JP5817327B2
,2015-11-18
[9]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、および透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011016388A1
,2013-01-10
[10]
酸化物焼結体、スパッタリング用ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物半導体薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015159916A1
,2017-04-13
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