低屈折率膜形成用組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20130556516

申请日：

2013-02-01

公开(公告)号：

JPWO2013115367A1

公开(公告)日：

2015-05-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09D183/04

IPC分类号：

C09D7/12 C09D183/02 G02B1/11

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共 50 条

[1]

低屈折率薄膜形成用塗布組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003052003A1 ,2005-04-28

[2]

高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017170668A1 ,2019-02-07

[3]

低屈折率膜形成用硬化性組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法[ja] [P].

AOYAMA YOHEI ;

KONNO TAKEMASA ;

MORI RISAKO .

日本专利 :JP2025024871A ,2025-02-21

[4]

低屈折率樹脂組成物、及び低屈折率硬化物[ja] [P].

日本专利 :JP2025171435A ,2025-11-20

[5]

下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020026879A1 ,2021-09-09

[6]

保護膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018052130A1 ,2019-06-27

[7]

低誘電率樹脂形成用組成物[ja] [P].

FUJIWARA TAKESHI ;

YOSHIDA KAZUHIRO ;

SAGO KOKI ;

YASUI TAIRA .

日本专利 :JP2024151745A ,2024-10-25

[8]

被膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019022087A1 ,2020-05-28

[9]

高平坦化膜形成用樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008029706A1 ,2010-01-21

[10]

低折射率膜形成用组合物 [P].

加藤拓 ;

岛田惠 ;

中岛诚 .

中国专利 :CN104080869B ,2014-10-01

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