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低屈折率膜形成用硬化性組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230129217
申请日
:
2023-08-08
公开(公告)号
:
JP2025024871A
公开(公告)日
:
2025-02-21
发明(设计)人
:
AOYAMA YOHEI
KONNO TAKEMASA
MORI RISAKO
申请人
:
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C09D4/00
IPC分类号
:
C08F2/44
C08F2/48
C09D7/47
C09D7/61
G02B1/111
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
低屈折率膜形成用組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013115367A1
,2015-05-11
[2]
低屈折率樹脂組成物、及び低屈折率硬化物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025171435A
,2025-11-20
[3]
高屈折率硬化性組成物、及び高屈折率硬化物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025174649A
,2025-11-28
[4]
高屈折率硬化性組成物、及び高屈折率硬化物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025174660A
,2025-11-28
[5]
高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017170668A1
,2019-02-07
[6]
低屈折率薄膜形成用塗布組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003052003A1
,2005-04-28
[7]
低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008044742A1
,2010-02-18
[8]
低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008143186A1
,2010-08-05
[9]
低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008059844A1
,2010-03-04
[10]
低屈折率及び撥水性を有する被膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005059050A1
,2007-07-12
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