低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja]

被引：0

申请号：

JP20080544156

申请日：

2007-11-13

公开(公告)号：

JPWO2008059844A1

公开(公告)日：

2010-03-04

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C09D183/08

IPC分类号：

C09D5/32 C09D7/63 G02B1/11 G02B1/111 G02B1/14

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共 50 条

[1]

低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008044742A1 ,2010-02-18

[2]

低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008143186A1 ,2010-08-05

[3]

被膜形成用塗布液、その製造方法、その被膜、及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007102514A1 ,2009-07-23

[4]

被膜形成用塗布液の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007020781A1 ,2009-02-19

[5]

低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、低屈折率膜用コーティング液セット、微粒子積層薄膜付き基材及びその製造方法、並びに光学部材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010044402A1 ,2012-03-15

[6]

低屈折率層形成用塗液、および反射防止フィルム[ja] [P].

SUZUKI TAKEHIRO .

日本专利 :JP2024083320A ,2024-06-20

[7]

低屈折率層形成用塗液、および反射防止フィルム[ja] [P].

日本专利 :JP7431401B1 ,2024-02-15

[8]

低屈折率膜形成用硬化性組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法[ja] [P].

AOYAMA YOHEI ;

KONNO TAKEMASA ;

MORI RISAKO .

日本专利 :JP2025024871A ,2025-02-21

[9]

反射防止部材及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018193742A1 ,2020-05-21

[10]

低屈折率薄膜形成用塗布組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003052003A1 ,2005-04-28

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