低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、低屈折率膜用コーティング液セット、微粒子積層薄膜付き基材及びその製造方法、並びに光学部材[ja]

被引：0

申请号：

JP20100533900

申请日：

2009-10-13

公开(公告)号：

JPWO2010044402A1

公开(公告)日：

2012-03-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B32B27/00

IPC分类号：

B32B9/00 B82Y20/00 B82Y30/00 C09D7/61 G02B1/11 G02B3/00 H01J29/88

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、低屈折率膜用コーティング液セット、微粒子積層薄膜付き基材及びその製造方法、並びに光学部材[ja] [P].

日本专利 :JP5720247B2 ,2015-05-20

[2]

低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008044742A1 ,2010-02-18

[3]

低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008143186A1 ,2010-08-05

[4]

低屈折率被膜形成用塗布液、その製造方法及び反射防止材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008059844A1 ,2010-03-04

[5]

金属微粒子及びその製造方法、並びに金属微粒子分散液及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008114866A1 ,2010-07-08

[6]

微粒子捕捉用ろ過膜及びその製造方法並びに多孔質膜及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6353330B2 ,2018-07-04

[7]

微粒子捕捉用ろ過膜及びその製造方法並びに多孔質膜及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6782081B2 ,2020-11-11

[8]

水性コート材、膜及びその製造方法、積層体及びその製造方法、並びに、水性コート材キット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019167414A1 ,2020-12-03

[9]

低誘電率膜及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022532755A ,2022-07-19

[10]

トナーの製造方法及びその製造装置並びに樹脂微粒子の製造方法及びその製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP5807431B2 ,2015-11-10

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