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离子束照射装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910022321.4
申请日
:
2019-01-10
公开(公告)号
:
CN110556281B
公开(公告)日
:
2024-01-23
发明(设计)人
:
山元彻朗
申请人
:
日新离子机器株式会社
申请人地址
:
日本京都府
IPC主分类号
:
H01J37/30
IPC分类号
:
H01J37/244
G21K5/04
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
黄艳;李琛
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-23
授权
授权
共 50 条
[1]
离子束照射装置
[P].
山元彻朗
论文数:
0
引用数:
0
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0
山元彻朗
.
中国专利
:CN110556281A
,2019-12-10
[2]
离子束照射装置
[P].
土肥正二郎
论文数:
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土肥正二郎
;
小野田正敏
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0
小野田正敏
;
高桥元喜
论文数:
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高桥元喜
.
中国专利
:CN109427526B
,2019-03-05
[3]
离子束照射装置及离子束照射方法
[P].
小野田正敏
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0
机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
小野田正敏
;
后藤亮介
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
后藤亮介
;
永尾友一
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
永尾友一
;
宇井利昌
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
宇井利昌
.
日本专利
:CN117790320A
,2024-03-29
[4]
离子束照射装置和离子束照射方法
[P].
安东靖典
论文数:
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安东靖典
.
中国专利
:CN100552866C
,2007-03-21
[5]
离子束照射方法和离子束照射装置
[P].
宇根英康
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宇根英康
;
田中浩平
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田中浩平
;
滨本成显
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滨本成显
;
藤田秀树
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藤田秀树
.
中国专利
:CN102655073A
,2012-09-05
[6]
离子束照射装置
[P].
松本武
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松本武
;
松田恭博
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松田恭博
;
安东靖典
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安东靖典
;
仲村信之
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仲村信之
;
谷井正博
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谷井正博
.
中国专利
:CN100587895C
,2008-01-02
[7]
离子束照射装置
[P].
高桥直也
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高桥直也
;
藤田秀树
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藤田秀树
;
吉村洋祐
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吉村洋祐
;
酒井滋树
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酒井滋树
.
中国专利
:CN107104030A
,2017-08-29
[8]
离子束照射装置
[P].
藤本龙吾
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
藤本龙吾
;
国立圭一
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机构:
日新离子机器株式会社
日新离子机器株式会社
国立圭一
.
日本专利
:CN110890264B
,2024-06-18
[9]
离子束照射装置
[P].
山本良明
论文数:
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山本良明
;
金永杜
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金永杜
;
带施兴司德
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带施兴司德
;
冈山智彦
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冈山智彦
.
中国专利
:CN104221122A
,2014-12-17
[10]
离子束照射装置
[P].
藤本龙吾
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藤本龙吾
;
国立圭一
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国立圭一
.
中国专利
:CN110890264A
,2020-03-17
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