学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
负性光刻胶废液的排放装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202322226641.6
申请日
:
2023-08-17
公开(公告)号
:
CN220543257U
公开(公告)日
:
2024-02-27
发明(设计)人
:
张垚
申请人
:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
申请人地址
:
510530 广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
代理机构
:
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
:
陈龙
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 保定市
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-27
授权
授权
共 50 条
[1]
负性光刻胶自动取样装置
[P].
纪昌炜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
纪昌炜
.
中国专利
:CN213456268U
,2021-06-15
[2]
负性光刻胶及其应用
[P].
李颖
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李颖
.
中国专利
:CN109343309A
,2019-02-15
[3]
除去负性光刻胶的方法
[P].
P·J·奇可洛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
P·J·奇可洛
;
B·D·阿莫斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
B·D·阿莫斯
;
S·麦卡蒙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S·麦卡蒙
.
中国专利
:CN103425000B
,2013-12-04
[4]
用于负性光刻胶的聚酰亚胺树脂及包含其的负性光刻胶
[P].
不公告发明人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
不公告发明人
.
中国专利
:CN113736082A
,2021-12-03
[5]
负性光刻胶生产用胶液循环过滤装置
[P].
张策
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张策
.
中国专利
:CN214319361U
,2021-10-01
[6]
一种负性光刻胶
[P].
尤慧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
尤慧
;
顾奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
顾奇
;
王胜林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王胜林
.
中国专利
:CN106886128B
,2017-06-23
[7]
一种负性光刻胶调配系统
[P].
梁坤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
眉山晶瑞电子材料有限公司
眉山晶瑞电子材料有限公司
梁坤
;
朱海盛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
眉山晶瑞电子材料有限公司
眉山晶瑞电子材料有限公司
朱海盛
;
池金龙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
眉山晶瑞电子材料有限公司
眉山晶瑞电子材料有限公司
池金龙
;
杨三保
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
眉山晶瑞电子材料有限公司
眉山晶瑞电子材料有限公司
杨三保
.
中国专利
:CN221580334U
,2024-08-23
[8]
负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法
[P].
王晓伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王晓伟
.
中国专利
:CN112731764A
,2021-04-30
[9]
评估负性光刻胶收缩的方法
[P].
许文霞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
许文霞
;
居碧玉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
居碧玉
;
李亚洲
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
李亚洲
;
刘伟林
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
刘伟林
;
杨坤
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
杨坤
;
周国庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华虹半导体(无锡)有限公司
华虹半导体(无锡)有限公司
周国庆
.
中国专利
:CN118033049A
,2024-05-14
[10]
负性光刻胶生产用搅拌溶解装置
[P].
郑祥飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郑祥飞
.
中国专利
:CN214210249U
,2021-09-17
←
1
2
3
4
5
→