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用于烃流的卤化物去除洗涤系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080078897.3
申请日
:
2020-10-28
公开(公告)号
:
CN114641556B
公开(公告)日
:
2024-03-01
发明(设计)人
:
K·里斯伯格亚尔科夫
L·乔根森
申请人
:
托普索公司
申请人地址
:
丹麦灵比
IPC主分类号
:
C10G31/08
IPC分类号
:
C10G70/06
C10K1/10
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
李进;杨思捷
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-01
授权
授权
共 50 条
[1]
用于烃流的卤化物去除洗涤系统
[P].
K·里斯伯格亚尔科夫
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K·里斯伯格亚尔科夫
;
L·乔根森
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L·乔根森
.
中国专利
:CN114641556A
,2022-06-17
[2]
从烃体系中去除烷基卤化物
[P].
S·I·霍梅托福特
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S·I·霍梅托福特
;
K·劳伦特斯
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K·劳伦特斯
;
A·鲍尔
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A·鲍尔
.
中国专利
:CN1224706A
,1999-08-04
[3]
无卤化物烃的生产
[P].
H·J·马哈詹
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机构:
托普索公司
托普索公司
H·J·马哈詹
;
A·S·滕辛格
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机构:
托普索公司
托普索公司
A·S·滕辛格
.
:CN119013376A
,2024-11-22
[4]
用于处理含卤化物溶液的载银卤化物去除树脂
[P].
D·L·拉马奇
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D·L·拉马奇
;
N·C·哈利南
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N·C·哈利南
;
D·F·怀特
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D·F·怀特
.
中国专利
:CN107835714A
,2018-03-23
[5]
制备烃基卤化物的方法
[P].
安德烈亚·科米尼
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安德烈亚·科米尼
;
加内什·瓦拉德卡尔·马尤其
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加内什·瓦拉德卡尔·马尤其
;
帕德马卡尔·戈卡莱·阿纳德
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帕德马卡尔·戈卡莱·阿纳德
;
尚蒂拉尔·卡斯利瓦·拉金德拉
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尚蒂拉尔·卡斯利瓦·拉金德拉
;
阿尼尔·本达尔·吉塔
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阿尼尔·本达尔·吉塔
.
中国专利
:CN101044147B
,2007-09-26
[6]
减少烃产物中的有机卤化物杂质
[P].
M·S·德莱弗
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M·S·德莱弗
;
H·S·拉驰恩
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H·S·拉驰恩
;
M·A·侯赛因
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M·A·侯赛因
.
中国专利
:CN101970382A
,2011-02-09
[7]
从烃溶剂中脱除有机卤化物
[P].
布鲁斯·罗伯特·蒂格
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布鲁斯·罗伯特·蒂格
;
弗朗克·格里姆·维里
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弗朗克·格里姆·维里
;
亚斯奥·萨卡古奇
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亚斯奥·萨卡古奇
.
中国专利
:CN1009003B
,1987-09-23
[8]
用于制备烃树脂的金属卤化物固体酸和在载体上的金属卤化物催化剂
[P].
劳拉·M·巴布科克
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劳拉·M·巴布科克
;
丹尼斯·G·莫雷尔
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丹尼斯·G·莫雷尔
.
中国专利
:CN1249735A
,2000-04-05
[9]
卤化物材料的制造方法及卤化物材料
[P].
古贺英一
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机构:
松下知识产权经营株式会社
松下知识产权经营株式会社
古贺英一
.
日本专利
:CN118829612A
,2024-10-22
[10]
减少烃产物中的有机卤化物污染物
[P].
H-K·C·蒂姆肯
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H-K·C·蒂姆肯
;
M·S·德莱弗
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M·S·德莱弗
;
T·V·哈里斯
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T·V·哈里斯
.
中国专利
:CN101910093A
,2010-12-08
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