在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980062717.X

申请日：

2019-08-12

公开(公告)号：

CN112771999A

公开(公告)日：

2021-05-07

发明(设计)人：

R·J·拉法克 I·V·福门科夫

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

H05G200

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

董莘

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-07	公开	公开
2021-10-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05G 2/00 申请日:20190812

共 50 条

[1]

在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统 [P].

R·J·拉法克 ;

I·V·福门科夫 .

:CN112771999B ,2024-12-31

[2]

用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统 [P].

M·R·格雷厄姆 ;

S·里奇 ;

S·W·麦克罗根 .

中国专利 :CN114271032A ,2022-04-01

[3]

用于EUV光源中的源材料调节的激光系统 [P].

I·V·福门科夫 ;

陶业争 ;

R·J·拉法克 .

中国专利 :CN113574970A ,2021-10-29

[4]

用于在激光致等离子体EUV光源中输送靶材料的系统和方法 [P].

G·O·瓦斯恩寇 ;

A·N·贝卡诺弗 ;

N·R·鲍尔林 ;

D·C·勃兰特 ;

A·I·叶尔绍夫 ;

R·D·西蒙斯 ;

O·V·霍迪金 ;

I·V·福缅科夫 .

中国专利 :CN101978792A ,2011-02-16

[5]

激光系统和用于在激光系统中聚焦激光束的方法 [P].

E·谢克尔 ;

B·乌尔巴赫 ;

Y·韦德尼 ;

R·韦雷德 ;

A·沙皮拉 ;

Y·伊莱祖尔 ;

E·凯勒 .

:CN117673881A ,2024-03-08

[6]

激光系统和用于运行这种激光系统的方法 [P].

A·布德尼基 .

中国专利 :CN113243064A ,2021-08-10

[7]

激光系统和用于运行这种激光系统的方法 [P].

A·布德尼基 .

德国专利 :CN113243064B ,2024-06-11

[8]

FMCW LIDAR激光系统和用于激光系统的运行方法 [P].

胡贝特·哈尔布里特 .

德国专利 :CN114981683B ,2025-03-28

[9]

用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备 [P].

P·M·鲍姆加特 ;

C·拉加古鲁 ;

B·A·萨姆斯 ;

A·B·里丁格 ;

J·K·卡多库斯 ;

G·O·瓦申科 .

中国专利 :CN108698850B ,2018-10-23

[10]

用于控制EUV光源中的靶材料的微滴的系统和方法 [P].

V·塞尼克里姆延 ;

M·威伦斯 .

中国专利 :CN105723811B ,2016-06-29

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