用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780013932.1

申请日：

2017-02-09

公开(公告)号：

CN108698850B

公开(公告)日：

2018-10-23

发明(设计)人：

P·M·鲍姆加特 C·拉加古鲁 B·A·萨姆斯 A·B·里丁格 J·K·卡多库斯 G·O·瓦申科

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

C01G1902

IPC分类号：

C22B704 C22B2508 G21K508

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

王茂华;崔卿虎

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-10-23	公开	公开
2019-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 19/02 申请日:20170209
2022-04-15	授权	授权

共 50 条

[1]

用于控制EUV光源中的靶材料的微滴的系统和方法 [P].

V·塞尼克里姆延 ;

M·威伦斯 .

中国专利 :CN105723811B ,2016-06-29

[2]

用于控制将EUV靶材料引入EUV室的装置和方法 [P].

D·U·H·特雷斯 ;

S·R·E·穆什 ;

B·A·萨姆斯 ;

A·梅迪纳·奥斯加拉 ;

T·W·德赖森 .

中国专利 :CN112772000A ,2021-05-07

[3]

用于提供靶材料的设备和方法 [P].

C·拉加古鲁 ;

J·M·阿戈提斯 ;

石川哲也 ;

P·M·鲍姆加特 .

中国专利 :CN107077905B ,2017-08-18

[4]

用于EUV辐射源的靶材料储存和递送系统 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

T·M·伍德伯恩 .

:CN120731135A ,2025-09-30

[5]

用于在激光致等离子体EUV光源中输送靶材料的系统和方法 [P].

G·O·瓦斯恩寇 ;

A·N·贝卡诺弗 ;

N·R·鲍尔林 ;

D·C·勃兰特 ;

A·I·叶尔绍夫 ;

R·D·西蒙斯 ;

O·V·霍迪金 ;

I·V·福缅科夫 .

中国专利 :CN101978792A ,2011-02-16

[6]

用于EUV光的光源容器 [P].

尹大根 ;

金圣协 ;

洪承杓 ;

李寅载 .

韩国专利 :CN118259555A ,2024-06-28

[7]

用于EUV辐射源的靶材料储存组件 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

P·G·M·霍杰玛克斯 ;

I·范德哈伦 .

:CN120641234A ,2025-09-12

[8]

在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统 [P].

R·J·拉法克 ;

I·V·福门科夫 .

中国专利 :CN112771999A ,2021-05-07

[9]

在EUV光源中用于靶量测和改变的激光系统 [P].

R·J·拉法克 ;

I·V·福门科夫 .

:CN112771999B ,2024-12-31

[10]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白钟勋 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN108472497A ,2018-08-31

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