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用于EUV辐射源的靶材料储存组件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202480009023.0
申请日
:
2024-01-11
公开(公告)号
:
CN120641234A
公开(公告)日
:
2025-09-12
发明(设计)人
:
R·S·卡帕迪亚
P·G·M·霍杰玛克斯
I·范德哈伦
申请人
:
ASML荷兰有限公司
申请人地址
:
荷兰维德霍温
IPC主分类号
:
B22F3/15
IPC分类号
:
H05G2/00
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
郑振
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-12
公开
公开
共 50 条
[1]
用于EUV辐射源的靶材料储存和递送系统
[P].
R·S·卡帕迪亚
论文数:
0
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0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
R·S·卡帕迪亚
;
T·M·伍德伯恩
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
T·M·伍德伯恩
.
:CN120731135A
,2025-09-30
[2]
EUV辐射源
[P].
拉尔斯·彼得·本克
论文数:
0
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0
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0
拉尔斯·彼得·本克
.
中国专利
:CN115552335A
,2022-12-30
[3]
EUV辐射源及其源室的插入件、EUV辐射源模块
[P].
M.哈格
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M.哈格
;
J.J.哈斯本伍德
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J.J.哈斯本伍德
;
I.皮尔奇
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I.皮尔奇
;
C.梅茨马彻
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C.梅茨马彻
.
中国专利
:CN115623651A
,2023-01-17
[4]
EUV辐射源以及EUV辐射产生方法
[P].
A·亚库宁
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A·亚库宁
;
V·班尼恩
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V·班尼恩
;
V·伊万诺夫
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V·伊万诺夫
;
K·科舍廖夫
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K·科舍廖夫
;
V·克里夫特苏恩
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V·克里夫特苏恩
;
D·克拉什科夫
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D·克拉什科夫
.
中国专利
:CN102823330A
,2012-12-12
[5]
极紫外(EUV)辐射源
[P].
V·V·德什潘德
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V·V·德什潘德
;
S·V·德什潘德
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S·V·德什潘德
;
D·克利斯
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D·克利斯
;
O·格鲁申克夫
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O·格鲁申克夫
;
S·克里什南
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S·克里什南
.
中国专利
:CN106605450A
,2017-04-26
[6]
UV辐射源组件
[P].
帕特里克·亚历山大·费伊
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机构:
特洛伊技术集团无限责任公司
特洛伊技术集团无限责任公司
帕特里克·亚历山大·费伊
.
加拿大专利
:CN118201645A
,2024-06-14
[7]
EUV辐射源和相关方法
[P].
W·乌巴克斯
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W·乌巴克斯
;
O·O·弗索拉托
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O·O·弗索拉托
.
中国专利
:CN113661446A
,2021-11-16
[8]
EUV辐射源和相关方法
[P].
W·乌巴克斯
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
W·乌巴克斯
;
O·O·弗索拉托
论文数:
0
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
O·O·弗索拉托
.
:CN113661446B
,2024-12-06
[9]
EUV辐射源和光刻设备
[P].
E·鲁普斯特拉
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0
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E·鲁普斯特拉
;
G·斯温克尔斯
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G·斯温克尔斯
;
E·布雷曼
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E·布雷曼
;
W·梅斯特龙
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0
W·梅斯特龙
.
中国专利
:CN102714911A
,2012-10-03
[10]
用于辐射源的容器
[P].
S·科斯迈科斯
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S·科斯迈科斯
;
R·G·M·兰斯勃根
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R·G·M·兰斯勃根
;
M·H·A·李德斯
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M·H·A·李德斯
;
H·G·泰根波什克
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H·G·泰根波什克
.
中国专利
:CN114868082A
,2022-08-05
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