用于EUV辐射源的靶材料储存和递送系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480012163.3

申请日：

2024-02-01

公开(公告)号：

CN120731135A

公开(公告)日：

2025-09-30

发明(设计)人：

R·S·卡帕迪亚 T·M·伍德伯恩

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

B22C9/08

IPC分类号：

B22D11/119 B22D23/00 B22D35/00 B22D39/02 B22D39/06 B22D43/00 G03F7/00 H05G2/00

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

郑振

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-30	公开	公开

共 50 条

[1]

用于EUV辐射源的靶材料储存组件 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

P·G·M·霍杰玛克斯 ;

I·范德哈伦 .

:CN120641234A ,2025-09-12

[2]

EUV辐射源 [P].

拉尔斯·彼得·本克 .

中国专利 :CN115552335A ,2022-12-30

[3]

EUV辐射源和相关方法 [P].

W·乌巴克斯 ;

O·O·弗索拉托 .

中国专利 :CN113661446A ,2021-11-16

[4]

EUV辐射源和相关方法 [P].

W·乌巴克斯 ;

O·O·弗索拉托 .

:CN113661446B ,2024-12-06

[5]

EUV辐射源和光刻设备 [P].

E·鲁普斯特拉 ;

G·斯温克尔斯 ;

E·布雷曼 ;

W·梅斯特龙 .

中国专利 :CN102714911A ,2012-10-03

[6]

EUV辐射源及其源室的插入件、EUV辐射源模块 [P].

M.哈格 ;

J.J.哈斯本伍德 ;

I.皮尔奇 ;

C.梅茨马彻 .

中国专利 :CN115623651A ,2023-01-17

[7]

EUV辐射源以及EUV辐射产生方法 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

K·科舍廖夫 ;

V·克里夫特苏恩 ;

D·克拉什科夫 .

中国专利 :CN102823330A ,2012-12-12

[8]

极紫外（EUV）辐射源 [P].

V·V·德什潘德 ;

S·V·德什潘德 ;

D·克利斯 ;

O·格鲁申克夫 ;

S·克里什南 .

中国专利 :CN106605450A ,2017-04-26

[9]

用于辐射源的光学系统和方法 [P].

A·S·特奇科夫 ;

A·M·斯卓克肯 .

:CN118383086A ,2024-07-23

[10]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

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