用于控制将EUV靶材料引入EUV室的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980063225.2

申请日：

2019-09-25

公开(公告)号：

CN112772000A

公开(公告)日：

2021-05-07

发明(设计)人：

D·U·H·特雷斯 S·R·E·穆什 B·A·萨姆斯 A·梅迪纳·奥斯加拉 T·W·德赖森

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

H05G200

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

董莘

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-19	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05G 2/00 申请日:20190925
2021-05-07	公开	公开

共 50 条

[1]

靶材料、高亮度EUV源和产生EUV辐射的方法 [P].

德米特里·伊戈列维奇·阿斯塔霍夫 ;

萨米尔·埃尔维 ;

丹尼斯·亚历山大罗维奇·格鲁什科夫 ;

弗拉基米尔·维塔列维奇·伊万诺夫 ;

奥列格·鲍里索维奇·赫里斯托福罗夫 ;

康斯坦丁·尼古拉耶维奇·科谢列夫 ;

米哈伊尔·谢尔盖耶维奇·克里沃科里托夫 ;

弗拉基米尔·米哈伊洛维奇·克里夫松 ;

亚历山大·安德烈耶维奇·拉什 ;

维亚切斯拉夫·瓦列里耶维奇·梅德韦杰夫 ;

亚历山大·尤里耶维奇·维诺霍多夫 .

:CN118435705A ,2024-08-02

[2]

用于控制EUV光源中的靶材料的微滴的系统和方法 [P].

V·塞尼克里姆延 ;

M·威伦斯 .

中国专利 :CN105723811B ,2016-06-29

[3]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白钟勋 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN108472497A ,2018-08-31

[4]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白宗薰 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN113791523A ,2021-12-14

[5]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白宗薰 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

:CN113791523B ,2024-04-09

[6]

用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备 [P].

P·M·鲍姆加特 ;

C·拉加古鲁 ;

B·A·萨姆斯 ;

A·B·里丁格 ;

J·K·卡多库斯 ;

G·O·瓦申科 .

中国专利 :CN108698850B ,2018-10-23

[7]

用于EUV辐射源的靶材料储存和递送系统 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

T·M·伍德伯恩 .

:CN120731135A ,2025-09-30

[8]

用于EUV辐射源的靶材料储存组件 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

P·G·M·霍杰玛克斯 ;

I·范德哈伦 .

:CN120641234A ,2025-09-12

[9]

用于控制EUV光源中的气流的装置和方法 [P].

J·T·斯特瓦特四世 ;

M·G·兰格洛斯 ;

马悦 .

中国专利 :CN115380626A ,2022-11-22

[10]

用于EUV光源的气流装置和方法 [P].

A·哈兹拉 ;

D·埃赫亚伊 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

:CN121003005A ,2025-11-21

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