用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111078800.1

申请日：

2016-12-13

公开(公告)号：

CN113791523B

公开(公告)日：

2024-04-09

发明(设计)人：

白宗薰 M·C·亚伯拉罕 D·R·埃文斯 J·M·加扎

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

H05G2/00

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

吕世磊

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-09	授权	授权

共 50 条

[1]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白钟勋 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN108472497A ,2018-08-31

[2]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白宗薰 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN113791523A ,2021-12-14

[3]

用于控制将EUV靶材料引入EUV室的装置和方法 [P].

D·U·H·特雷斯 ;

S·R·E·穆什 ;

B·A·萨姆斯 ;

A·梅迪纳·奥斯加拉 ;

T·W·德赖森 .

中国专利 :CN112772000A ,2021-05-07

[4]

靶材料、高亮度EUV源和产生EUV辐射的方法 [P].

德米特里·伊戈列维奇·阿斯塔霍夫 ;

萨米尔·埃尔维 ;

丹尼斯·亚历山大罗维奇·格鲁什科夫 ;

弗拉基米尔·维塔列维奇·伊万诺夫 ;

奥列格·鲍里索维奇·赫里斯托福罗夫 ;

康斯坦丁·尼古拉耶维奇·科谢列夫 ;

米哈伊尔·谢尔盖耶维奇·克里沃科里托夫 ;

弗拉基米尔·米哈伊洛维奇·克里夫松 ;

亚历山大·安德烈耶维奇·拉什 ;

维亚切斯拉夫·瓦列里耶维奇·梅德韦杰夫 ;

亚历山大·尤里耶维奇·维诺霍多夫 .

:CN118435705A ,2024-08-02

[5]

用于EUV辐射源的靶材料储存和递送系统 [P].

R·S·卡帕迪亚 ;

T·M·伍德伯恩 .

:CN120731135A ,2025-09-30

[6]

用于收集靶材料的仪器、系统和方法 [P].

L·尤伦 ;

D·E·坎普顿 ;

J·J·诺德伯格 ;

S·卡雷 ;

J·E·伦特 .

中国专利 :CN111139175A ,2020-05-12

[7]

用于收集靶材料的仪器、系统和方法 [P].

L·尤伦 ;

D·E·坎普顿 ;

J·J·诺德伯格 ;

S·卡雷 ;

J·E·伦特 .

美国专利 :CN111139175B ,2024-08-13

[8]

用于收集靶材料的仪器、系统和方法 [P].

L·尤伦 ;

D·E·坎普顿 ;

J·J·诺德伯格 ;

S·卡雷 ;

J·E·伦特 .

中国专利 :CN106062170B ,2016-10-26

[9]

用于净化用于EUV光源的靶材料的方法和设备 [P].

P·M·鲍姆加特 ;

C·拉加古鲁 ;

B·A·萨姆斯 ;

A·B·里丁格 ;

J·K·卡多库斯 ;

G·O·瓦申科 .

中国专利 :CN108698850B ,2018-10-23

[10]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

C·W·J·贝伦德森 ;

I·V·福门科夫 ;

A·I·厄肖夫 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

:CN117524536A ,2024-02-06

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