控制EUV光源中的碎片的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311529251.4

申请日：

2018-04-03

公开(公告)号：

CN117524536A

公开(公告)日：

2024-02-06

发明(设计)人：

C·W·J·贝伦德森 I·V·福门科夫 A·I·厄肖夫 J·T·斯特瓦特四世

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G21K1/06

IPC分类号：

G03F7/20 H05G2/00

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨飞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-02-06	公开	公开
2024-02-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G21K 1/06申请日:20180403

共 50 条

[1]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

C·W·J·贝伦德森 ;

I·V·福门科夫 ;

A·I·厄肖夫 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

中国专利 :CN110622257A ,2019-12-27

[2]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

M·G·兰格洛斯 ;

R·G·M·兰斯博根 ;

M·H·A·里恩德斯 ;

H·G·泰格波什 .

中国专利 :CN111903195A ,2020-11-06

[3]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

M·G·兰格洛斯 ;

R·G·M·兰斯博根 ;

M·H·A·里恩德斯 ;

H·G·泰格波什 .

:CN111903195B ,2025-02-21

[4]

用于控制EUV光源中的气流的装置和方法 [P].

J·T·斯特瓦特四世 ;

M·G·兰格洛斯 ;

马悦 .

中国专利 :CN115380626A ,2022-11-22

[5]

用于EUV光源的气流装置和方法 [P].

A·哈兹拉 ;

D·埃赫亚伊 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

:CN121003005A ,2025-11-21

[6]

用于主动加热EUV光源中的基板的装置和方法 [P].

N·布拉克斯玛 ;

李天启 ;

M·A·亚乌兹 .

:CN117999857A ,2024-05-07

[7]

用于极紫外光源的碎片处置装置和方法 [P].

E·J·S·约翰逊 ;

K·J·斯卡菲迪 ;

G·D·曼德鲁什亚克 ;

L·伊索 ;

A·克罗克 ;

B·C·卡普托 .

:CN119404141A ,2025-02-07

[8]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

:CN113039868B ,2024-11-05

[9]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

中国专利 :CN113039868A ,2021-06-25

[10]

用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置 [P].

白钟勋 ;

M·C·亚伯拉罕 ;

D·R·埃文斯 ;

J·M·加扎 .

中国专利 :CN108472497A ,2018-08-31

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