控制EUV光源中的碎片的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980021477.9

申请日：

2019-03-20

公开(公告)号：

CN111903195B

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

M·G·兰格洛斯 R·G·M·兰斯博根 M·H·A·里恩德斯 H·G·泰格波什

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

H05G2/00

IPC分类号：

G03F7/20

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

董莘

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-21	授权	授权
2025-03-28	专利权期限的补偿	专利权期限补偿IPC(主分类):H05G 2/00申请日:20190320授权公告日:20250221原专利权期满终止日:20390320现专利权期满终止日:20390619

共 50 条

[1]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

M·G·兰格洛斯 ;

R·G·M·兰斯博根 ;

M·H·A·里恩德斯 ;

H·G·泰格波什 .

中国专利 :CN111903195A ,2020-11-06

[2]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

C·W·J·贝伦德森 ;

I·V·福门科夫 ;

A·I·厄肖夫 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

:CN117524536A ,2024-02-06

[3]

控制EUV光源中的碎片的装置和方法 [P].

C·W·J·贝伦德森 ;

I·V·福门科夫 ;

A·I·厄肖夫 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

中国专利 :CN110622257A ,2019-12-27

[4]

用于控制EUV光源中的气流的装置和方法 [P].

J·T·斯特瓦特四世 ;

M·G·兰格洛斯 ;

马悦 .

中国专利 :CN115380626A ,2022-11-22

[5]

用于EUV光源的气流装置和方法 [P].

A·哈兹拉 ;

D·埃赫亚伊 ;

J·T·斯特瓦特四世 .

:CN121003005A ,2025-11-21

[6]

EUV光源中的目标材料控制 [P].

A·L·G·戈文达拉朱 ;

D·贝塞姆斯 ;

桑迪普·莱 ;

P·A·威廉斯 ;

S·金卡尔 ;

J·M·卢肯斯 ;

J·D·特德罗 .

中国专利 :CN113711697A ,2021-11-26

[7]

用于主动加热EUV光源中的基板的装置和方法 [P].

N·布拉克斯玛 ;

李天启 ;

M·A·亚乌兹 .

:CN117999857A ,2024-05-07

[8]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

:CN113039868B ,2024-11-05

[9]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

中国专利 :CN113039868A ,2021-06-25

[10]

极紫外光源中的碎片减少 [P].

L·伊索 ;

C·拉加古鲁 ;

K·R·乌姆斯塔德特 .

:CN118476317A ,2024-08-09

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