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LDMOS晶体管及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610504769.6
申请日
:
2016-06-30
公开(公告)号
:
CN107564816A
公开(公告)日
:
2018-01-09
发明(设计)人
:
赵猛
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L21336
IPC分类号
:
H01L2978
H01L2906
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
吴敏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-08
授权
授权
2018-02-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/336 申请日:20160630
2018-01-09
公开
公开
共 50 条
[1]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
程勇
论文数:
0
引用数:
0
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0
程勇
;
蒲贤勇
论文数:
0
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0
蒲贤勇
;
王海强
论文数:
0
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0
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0
王海强
.
中国专利
:CN105448990A
,2016-03-30
[2]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
郑大燮
论文数:
0
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0
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0
郑大燮
;
魏琰
论文数:
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0
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0
魏琰
.
中国专利
:CN103594492A
,2014-02-19
[3]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
刘正超
论文数:
0
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0
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0
刘正超
.
中国专利
:CN103077895A
,2013-05-01
[4]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
赵猛
论文数:
0
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0
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0
赵猛
.
中国专利
:CN109285780B
,2019-01-29
[5]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
马千成
论文数:
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马千成
;
程勇
论文数:
0
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0
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程勇
;
冯喆韻
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0
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冯喆韻
.
中国专利
:CN104701373A
,2015-06-10
[6]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
曹国豪
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曹国豪
;
郑大燮
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0
郑大燮
.
中国专利
:CN104701366A
,2015-06-10
[7]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
张博
论文数:
0
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0
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0
机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
张博
.
中国专利
:CN118039487A
,2024-05-14
[8]
LDMOS晶体管及其形成方法
[P].
邱慈云
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邱慈云
;
吕瑞霖
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吕瑞霖
;
蔡建祥
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蔡建祥
.
中国专利
:CN104241354B
,2014-12-24
[9]
NMOS晶体管及其形成方法
[P].
赵猛
论文数:
0
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赵猛
.
中国专利
:CN106960792A
,2017-07-18
[10]
MOS晶体管及其形成方法
[P].
曹国豪
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曹国豪
;
蒲贤勇
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蒲贤勇
;
洪中山
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洪中山
.
中国专利
:CN103715133A
,2014-04-09
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