有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010413700.9
申请日
2020-05-15
公开(公告)号
CN111948903A
公开(公告)日
2020-11-17
发明(设计)人
郡大佑 中原贵佳 泽村昂志 佐藤裕典 山本靖之
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G03F7004
IPC分类号
G03F711 G03F709 C08G6102
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;李茂家
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
中原贵佳 ;
泽村昂志 ;
佐藤裕典 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN111948903B ,2025-08-29
[2]
有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
泽村昂志 ;
石绵健汰 ;
中原贵佳 .
中国专利 :CN112034681A ,2020-12-04
[3]
有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
泽村昂志 ;
石绵健汰 ;
中原贵佳 .
日本专利 :CN112034681B ,2024-08-20
[4]
有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
石绵健汰 ;
山本靖之 ;
矢野俊治 .
中国专利 :CN112213919A ,2021-01-12
[5]
有机膜形成用组合物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
石绵健汰 ;
山本靖之 ;
矢野俊治 .
日本专利 :CN112213919B ,2024-09-27
[6]
有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
中原贵佳 ;
山本靖之 ;
佐藤裕典 ;
荻原勤 .
日本专利 :CN111913352B ,2025-08-01
[7]
有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
中原贵佳 ;
山本靖之 ;
佐藤裕典 ;
荻原勤 .
中国专利 :CN111913352A ,2020-11-10
[8]
有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、图案形成方法及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN121115406A ,2025-12-12
[9]
有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
中原贵佳 ;
石绵健汰 ;
山本靖之 .
中国专利 :CN112859516A ,2021-05-28
[10]
有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物 [P]. 
郡大佑 ;
中原贵佳 ;
石绵健汰 ;
山本靖之 .
日本专利 :CN112859516B ,2024-09-24