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微波等离子气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN202030538115.2
申请日
:
2020-09-11
公开(公告)号
:
CN306322116S
公开(公告)日
:
2021-02-09
发明(设计)人
:
张新峰
王炜
龙安泽
申请人
:
申请人地址
:
226500 江苏省南通市如皋市城南街道电信东一路6号
IPC主分类号
:
1599
IPC分类号
:
代理机构
:
北京汇信合知识产权代理有限公司 11335
代理人
:
孙腾
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-02-09
授权
授权
共 50 条
[1]
微波等离子化学气相沉积设备
[P].
党文立
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市库比克科技有限公司
深圳市库比克科技有限公司
党文立
;
蒋明权
论文数:
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0
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0
机构:
深圳市库比克科技有限公司
深圳市库比克科技有限公司
蒋明权
.
中国专利
:CN118835224B
,2024-11-29
[2]
微波等离子化学气相沉积设备
[P].
党文立
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市库比克科技有限公司
深圳市库比克科技有限公司
党文立
;
蒋明权
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市库比克科技有限公司
深圳市库比克科技有限公司
蒋明权
.
中国专利
:CN118835224A
,2024-10-25
[3]
等离子体气相沉积设备
[P].
王凤明
论文数:
0
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王凤明
;
李王俊
论文数:
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0
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李王俊
;
陈晨
论文数:
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0
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陈晨
.
中国专利
:CN111705307A
,2020-09-25
[4]
微波等离子化学气相沉积设备用冷却罩
[P].
刘华
论文数:
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0
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刘华
;
刘引
论文数:
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引用数:
0
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0
刘引
.
中国专利
:CN214572217U
,2021-11-02
[5]
微波等离子化学气相沉积设备用屏蔽罩
[P].
刘华
论文数:
0
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刘华
;
刘引
论文数:
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0
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0
刘引
.
中国专利
:CN214572218U
,2021-11-02
[6]
一种微波等离子气相沉积金刚石的设备
[P].
曹晓君
论文数:
0
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曹晓君
.
中国专利
:CN113430499A
,2021-09-24
[7]
自动循环等离子气相沉积系统
[P].
朱刚劲
论文数:
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朱刚劲
;
朱刚毅
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朱刚毅
;
朱文廓
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0
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0
朱文廓
.
中国专利
:CN202808940U
,2013-03-20
[8]
自动循环等离子气相沉积系统
[P].
朱刚劲
论文数:
0
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0
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0
朱刚劲
;
朱刚毅
论文数:
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朱刚毅
;
朱文廓
论文数:
0
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0
朱文廓
.
中国专利
:CN102560426A
,2012-07-11
[9]
螺旋波等离子气相沉积装置
[P].
胡颖
论文数:
0
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0
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0
胡颖
.
中国专利
:CN208472189U
,2019-02-05
[10]
微波等离子体化学气相沉积设备(MPCVD)
[P].
张俊生
论文数:
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引用数:
0
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机构:
上海铂世光半导体科技有限公司
上海铂世光半导体科技有限公司
张俊生
;
胡常青
论文数:
0
引用数:
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机构:
上海铂世光半导体科技有限公司
上海铂世光半导体科技有限公司
胡常青
.
中国专利
:CN308664259S
,2024-05-31
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